半導体株マップ
4970AI波及

東洋合成工業

材料 › フォトレジスト
フォトレジスト原料EUV関連半導体材料
AI需要との関係:フォトレジスト原料・光酸発生剤の専業メーカーとして先端レジスト需要増に連動するため

業界内ポジション

フォトレジストの原料となる感光性モノマー・光酸発生剤(PAG)を手がける化学メーカー。半導体レジストのサプライチェーンの上流に位置しEUV対応レジスト原料の開発でも実績を持つ。

基本財務データ

時価総額

12億円

PER

60.2倍

PBR

4.6倍

配当利回り

0.3%

売上高

4億円

営業利益

0億円

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